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Thermal stability of Mo/Si multilayer soft-X-ray mirrors fabricated by electron-beam evaporation
Stock, H. J.
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Kleineberg, U.
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Heidemann, B.
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Hilgers, K.
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Kloidt, A.
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Schmiedeskamp, B.
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Heinzmann, Ulrich
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Krumrey, M.
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Müller, P.
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Scholze, F.
In: Applied Physics A: Materials Science and Processing, Jg. 58 H. 4, S. 371-376
