Braun, Stefan: Gefüge- und Grenzflächenbeschaffenheit von Mo/Si-Multischichten, synthetisiert mittels Puls-Laser- und Magnetron-Sputter-Deposition : Spiegel für extrem [...]. 2004
Inhalt
- Inhaltsverzeichnis
- Liste verwendeter Formelzeichen
- Einleitung
- Reflexion an Multischichten
- Theoretische Beschreibung
- Realstruktur von Multischichten
- Abweichungen von der Periodizität des Stapelaufbaus
- Grenzflächenrauigkeit
- Diffuse Grenzflächen
- Abweichungen zwischen Kompaktmaterial- und Dünnschichtdichte
- Oberflächenoxidation und -kontamination
- Multischichten für EUV-Strahlung
- Verfahren zur Herstellung von nm-Multischichten
- Strukturzonenmodelle
- Elektronenstrahlverdampfung
- Sputter-Deposition
- Das Prinzip des Sputterns
- Energieverteilung gesputterter Teilchen
- Anlagentechnik zur Magnetron-Sputter-Deposition (MSD)
- Puls-Laser-Deposition (PLD)
- Verfahren zur Charakterisierung von nm-Multischichten
- PLD zur Herstellung von EUV-Spiegeln
- Überblick über Ergebnisse anderer Arbeitsgruppen
- Mo/Si-Schichtwachstum bei der PLD
- Stabilität der Abscheidung
- Variation des Schichtdickenverhältnisses
- Droplets bei Mo/Si-Multischichten
- Variation der Periodenanzahl
- Molybdänkarbid als Absorbermaterial
- Variation der Laserpulsenergie
- Homogenität der Multischichten
- Modell von PLD-Mo/Si-Multischichten
- MSD zur Herstellung von EUV-Spiegeln
- Reproduzierbarkeit der Schichtherstellung
- Homogenität der Beschichtung
- Grundsystem Mo/Si
- Abscheideraten und Periodendickenkontraktion
- Schichtbildung in Abhängigkeit vom Ar-Sputtergasdruck
- Optimierung der Deckschichtkonfiguration
- Schichtstrukturmodell reiner Mo/Si-Multischichten
- Diffusions- und Reaktionsbarriereschichten
- Silber als Barriereschichtmaterial
- Borkarbid als Barriereschichtmaterial
- Kohlenstoff als Barriereschichtmaterial
- Temperaturstabilität mit Barriereschichten
- Absorberschichten der Kombination Ru/Mo
- Zusammenfassung
- Literaturverzeichnis
- Danksagung
- Eidesstattliche Erklärung
- Lebenslauf